纯水在电子工业中的应用
浏览次数：42次发表时间：2017-07-20
在电子工业中，纯水主要应用在集成电路的生产和电子元器件的生产中，纯水水质的好坏，往往决定着电子元器件产品的质量与成品率。纯水中的碱金属（K、Ga等）、重金属（Au、Ag、Cu等）其他离子、以及水中的颗粒、细菌等的含量对电子元器件、集成电路的生产有着极大的影响。
一、 纯水在集成电路（DRAM） 生产中的应用
在集成电路、晶体管生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于硅片氧化的水汽源、配制电镀液、药液配制以及部分设备的冷却水等。
集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。集成电路生产对纯水水质的要求见表1。
表1 集成电路（DRAM）对纯水水质的要求
| 集成电路（DRAM）集成度 | 16K | 64K | 256K | 1M | 4M | 16M | |
| 相邻线距（μm） | 4 | 2.2 | 1.8 | 1.2 | 0.8 | 0.5 | |
| 微粒 | 直径（μm） | 0.4 | 0.2 | 0.2 | 0.1 | 0.08 | 0.05 |
| 个数（PCS/ml） | ＜100 | ＜100 | ＜20 | ＜20 | ＜10 | ＜10 | |
| 细菌（CFU/100ML） | ＜100 | ＜50 | ＜10 | ＜5 | ＜1 | ＜0.5 | |
| 电阻率（μs/cm，25℃） | ＞16 | ＞17 | ＞17.5 | ＞18 | ＞18 | ＞18.2 | |
| TOC(ppb) | ＜1000 | ＜500 | ＜100 | ＜50 | ＜30 | ＜10 | |
| DO(ppb) | ＜500 | ＜200 | ＜100 | ＜80 | ＜50 | ＜10 | |
| Na+(ppb) | ＜1 | ＜1 | ＜0.8 | ＜0.5 | ＜0.1 | ＜0.1 | |
二、纯水在电子元器件生产中的作用
纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出，纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一，水质要求也越来越高。在电子元器件生产中，高纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料，不同的电子元器件生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。
在电解电容器生产中，铝箔及工作件的清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂敷碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃；含有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个显像管需用纯水80kg[1]。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质的要求见表1。
表1 显像管、液晶显示器用纯水水质
表2 显像管、液晶显示器用纯水水质
| 项目单位 |
电阻率 MΩ·cm (25t) |
细菌 个/ml |
微粒 个/ml |
TOC mg/L |
Na+ μg/L |
K+ μg/L |
Cu μg/L |
Fe μg/L |
Zn μg/L |
|
黑白显像管 彩色显像管 液晶显示器 |
≥5 ≥5 ≥5 |
≤5 ≤1 ≤1 |
≤10(Φ＞0.5μ) ≤10(Φ＞1μ) ≤10(Φ＞1μ) |
≤0.5 ≤0.5 ≤1 |
≤10 ≤10 ≤10 |
≤10 ≤10 ≤10 |
≤8 ≤10 ≤10 |
≤10 ≤10 ≤10 |
≤10 ≤10 ≤10 |
沃特浦全国免费咨询热线：400-626-4939
欢迎广大客户来电垂询，沃特浦竭诚为您服务
