美国半导体工业用纯水指标
浏览次数:73次发表时间:2017-07-20
项 目 |
Ⅰ级 |
Ⅱ级 |
Ⅲ级 |
Ⅳ级 |
残渣,mg/L |
0.1 |
0.3 |
0.3 |
0.5 |
TOC,mg/L |
0.02 |
0.05 |
0.10 |
0.40 |
颗粒,粒/L |
500 |
1000 |
2500 |
5000 |
细菌数,个100mL |
0 |
6 |
10 |
50 |
活性硅SiO2,μg/L |
3 |
5 |
10 |
40 |
电阻率MΩ·cm |
18.3 |
17.9 |
17.5 |
17.0 |
阳离子,μg/L |
0.2 |
2.0 |
5.0 |
* |
铝 Al3+ |
0.2 |
2.0 |
5.0 |
* |
铵 NH4+ |
0.3 |
0.3 |
0.5 |
* |
铬 Cr6+ |
0.02 |
0.1 |
0.5 |
* |
铁 Fe 3+ |
0.02 |
0.1 |
0.2 |
* |
铜 Cu 2+ |
0.02 |
0.1 |
0.5 |
* |
锰 Mn 2+ |
0.05 |
0.5 |
1.0 |
* |
钾 K + |
0.1 |
0.3 |
1.0 |
4.0 |
钠 Na + |
0.05 |
0.2 |
1.0 |
5.0 |
锌 Zn 2+ |
0.03 |
0.1 |
0.5 |
* |
阴离子,μg/L |
0.1 |
0.1 |
0.3 |
* |
溴 Br - |
0.1 |
0.1 |
0.3 |
* |
氯 Cl - |
0.05 |
0.2 |
0.8 |
* |
亚硝酸根 NO2- |
0.05 |
0.1 |
0.3 |
* |
硝酸根 NO3- |
0.1 |
0.1 |
0.5 |
* |
磷酸根 PO43- |
0.2 |
0.2 |
0.3 |
* |
硫酸根 SO42- |
0.05 |
0.3 |
1.0 |
* |
*此值未定。
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