超纯水系统之最新发展
浏览次数：46次发表时间：2017-07-20
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摘要 |
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半导体制造过程中1/3都是洗净工程，而其中水是洗净过程中具有相当重要的部分，其主要是除去附着于晶片或LCD(液晶显示器)面板上残余酸碱、有机物及外来之杂质，所以被当作为洗净的水，一定使用尽可能已除去所有不纯物的纯水或超纯水，因此水的品质要求在半导体业中相当严苛，而本组讨论的重点在于半导体业之产品不断提升，线路间隙愈来愈小，纯水的要求愈来愈严格，就纯水系统的发展演进过程及未来之发展概况作一探讨，以及就水中杂质去除方式，在将符合精密工业之典型超纯水制造系统模组加以组合，能够对纯水系统有一概括之了解。 |
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一、半导体用超纯水水质的变迁 |
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在半导体工业中，纯水为半导体积体电路及其相关制品制造工程之洗净用水。纯水对半导体制品品质及良率有很大的影响，因此纯度之要求相当高，此水被称为「超纯水」。而积体电路高机体化急速发展的现在，洗净水已被期望达到更近于理论纯水之「超」超纯水。超纯水的要求如表(1)所示，它是随着积体电路的超高集积化而有更高纯变化。 |
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表1 半导体用超纯水的水质变迁 |
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